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| Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces VIII |
| 価格 ：\31,586（税込） |
| 隔年で開かれる半導体デバイスの洗浄化技術に関する最大規模の会議。本書は2006年にベルギーのアントワープで開催されたもの。LSIの洗浄化技術とFEOLおよびBEOLプロセスにおける洗浄と汚染除去技術のすべての面がカバーされている。Ｓｉのほか、SiGe,Ｇｅのような関連半導体の表面化学、新しいゲートスタック関連の洗浄、インターコネクトレベルの洗浄、種々の新材料の洗浄と汚染除去、ウェハ裏面の洗浄、ＣＭＰ後の洗浄に関する研究が発表されている。 |
| 注文番号 |
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| ISBN |
ISBN10 ：
ISBN13 ： 978-3-908451-46-4 |
| 著者 |
d. by Paul Mertens, Marc Maeris & Marc Heyns
8th Int. Symp. on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces
(Solid State Phenomena Vols.134)
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| シリーズ名 |
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| 形態 |
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ページ数 |
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シリーズ巻号 |
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出版社 |
Trans tech |
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| Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces VIII |
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